Aplikacje 1/4" punkt użyciaSzafy gazoweProdukcja półprzewodnikówSkrzynki rozdzielaczy zaworowychLaboratoria badawcze
CechyOptymalna wydajność i czystość w świetnej cenieWykończenie powierzchni wewnętrznej do 10 mikrocala Ra / 0,25 mikrometra zapewnia minimalne powstawanie lub zatrzymywanie cząstekPrawdziwa membrana uszczelniająca z korpusem metalowym zapewnia zwiększoną szczelnośćBrak sprężyny napinającej lub urządzenia ciernego w strumieniu przepływuRegulowany ogranicznik ograniczający ciśnienie wylotoweDostępny jest pierścień pokrywy z możliwością pozycjonowania
CzyszczenieOczyszczona elektronicznie wodą DI i certyfikowana pod kątem cząstek ES 500 dla modeli z wewnętrznym polerowaniem elektrochemicznym